生物制品专用洗瓶机清洗机
Rising-F2实验室器皿清洗机，双开门直通装载，可穿墙式安装，可连接自来水和纯水两种水源，正常清洗流程为先用自来水和清洁剂进行加热主洗，然后用纯水对清洗物品进行漂洗，当您需要对清洗器皿或器具有烘干要求时，请选用Rising-F1型号； Rising-F2实验室器皿清洗机将带
舒美牌KQ-700V台式超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。
舒美牌KQ-50DB台式数控超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位对超声液位、液温精度、超声频率、超声时间、超声功率等高要求、高洁度、高精度的清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取及细胞粉碎。
舒美牌KQ-700B台式超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。
自动进样瓶清洗机TX-500C
简介： 进样瓶大量应用于液相等微量分析仪器，需求量大，洁净度及其一致要求高，人工清洗费时且难以保证一致性，使用一次性投入大且浪费资源，现有清洗设备结构简单，自动化程度低，难以保证清洗效果和效率。
深反应离子刻蚀及化学气相沉积等离子处理系统 （蚀刻、沉积、低温等离子体增强、装载互锁式 、感应耦合、ICP、等离子处理系统）
IL装载互锁式（Load Lock）感应耦合等离子（ICP）处理系统、感应耦合等离子（ICP）蚀刻/沉积等离子系统高性能深反应离子刻蚀（DRIE）及低温等离子体增强化学气相沉积（PEVCD）等离子处理系统
清洗器
产品型号 SD8200H超声功率（W） 500加热功率（W） 600容量（L） 22.5槽内尺寸（mm)L×W×H 500×300×150外形尺寸（mm)L×W×H 570×330×330超声频率（KHz） 40选配 降音盖、排水 网架、降音盖、排水价格（元） 9900（元） 10400（元）