生物制品专用洗瓶机清洗机
Rising-F2实验室器皿清洗机,双开门直通装载,可穿墙式安装,可连接自来水和纯水两种水源,正常清洗流程为先用自来水和清洁剂进行加热主洗,然后用纯水对清洗物品进行漂洗,当您需要对清洗器皿或器具有烘干要求时,请选用Rising-F1型号; Rising-F2实验室器皿清洗机将带
舒美牌KQ-700V台式超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。
舒美牌KQ-50DB台式数控超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位对超声液位、液温精度、超声频率、超声时间、超声功率等高要求、高洁度、高精度的清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取及细胞粉碎。
舒美牌KQ-700B台式超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。
自动进样瓶清洗机TX-500C
简介: 进样瓶大量应用于液相等微量分析仪器,需求量大,洁净度及其一致要求高,人工清洗费时且难以保证一致性,使用一次性投入大且浪费资源,现有清洗设备结构简单,自动化程度低,难以保证清洗效果和效率。
深反应离子刻蚀及化学气相沉积等离子处理系统 (蚀刻、沉积、低温等离子体增强、装载互锁式 、感应耦合、ICP、等离子处理系统)
IL装载互锁式(Load Lock)感应耦合等离子(ICP)处理系统、感应耦合等离子(ICP)蚀刻/沉积等离子系统高性能深反应离子刻蚀(DRIE)及低温等离子体增强化学气相沉积(PEVCD)等离子处理系统
清洗器
产品型号 SD8200H超声功率(W) 500加热功率(W) 600容量(L) 22.5槽内尺寸(mm)L×W×H 500×300×150外形尺寸(mm)L×W×H 570×330×330超声频率(KHz) 40选配 降音盖、排水 网架、降音盖、排水价格(元) 9900(元) 10400(元)