JN-100FS低温纳米材料制备分散机
◆压力:0~207Mpa ◆连续流:100L/小时 ◆电源:380V(制备分散全程在4~6℃循环水浴中进行)◆外形尺寸:1300*620*730
高压反应釜
高压釜采用环形稀土永磁耦合驱动器,搅拌力矩大,具有静密封、无泄漏的特点。釜体材料主要采用1Cr18NI9Ti 不锈钢,并可根据不同介质要求制作钛材(TA2)、聚四氟
微型手持均质仪
HC-518K微型手持均质仪外观轻巧,手持式设计,操作简单,采用微型直流马达驱动研磨杵工作,配备1.5m1离心管,研磨微量组织,时间短见效快。研磨杵重量轻,适合多种灭茵方式,可重复使用,拆卸方便。
瑞士KINEMATICA- PT-DA Injector 分散头
瑞士KINEMATICA- PT-DA Injector 分散头,注入式的设计可根据客户的要求用于所有型号的分散头分散头特点:+ 液体直接注入到分散头出;标准的定转子结构 配上注入式导管应用领域: 用于注入高活性物质; 防止高活性物质在分散之前就进行的反应
高压均质机NT-H30
柱塞的一段伸入到泵体的连接体内,在传动机构的带动下柱塞在连接体内往复运动。当柱塞向内移动时,连接体内形成低压,排料关闭,进料阀打开,物料被吸入。当柱塞向外移动时,连接体内形成高压,进料阀关闭,排料阀打开,物料被排出。在主泵体内通过进料阀,出料阀以及均
可编程匀胶机旋转旋涂仪
  可编程匀胶机、旋转涂布机、涂层仪、旋涂仪、涂膜仪、涂覆仪、甩胶机、Programmable Spin Coater 薄膜沉积、粗饲料研究、资料控制、半导体薄膜、金属及玻璃、有机薄膜制备,光学镀膜及磁膜、液固界面镀膜、半导体、化工材料、硅片、晶圆片、光
